Essential Macleod是一套完整的光學薄膜分析與設計的軟件包，它能在任一32位、64位微軟窗口環(huán)境操作系統(tǒng)下運行（除了Windows RT）， 并且具有真正的多文檔操作界面；它能滿足光學鍍膜設計中的各種要求；既可以從頭開始設計，也可以優(yōu)化已有的設計；可以模擬設計生產中的誤差，也可以導出薄膜的光學常數(shù)，是當今市場上最完善的薄膜設計及分析軟件。
模塊：Core模塊+5個附加模塊
Core模塊
Macleod核心模塊是軟件的最低配置，包含設計編輯器，數(shù)據(jù)、目標編輯器，輸入/輸出，材料管理，性能計算，優(yōu)化和綜合，和其它軟件或硬件的數(shù)據(jù)交換，導納軌跡，電場，輔助設計等，是整個軟件包的基本構架。
Core模塊功能
效能計算
Essential Macleod 提供了整組完整的效能計算。除了一般反射和透射計算外，也包括沉積密度、吸收，橢圓參數(shù)，超快參數(shù) (群組延遲、群組延遲色散、三階色散)和多光色散，也可以進行色彩計算。公差的計算是分辨設計對微小厚度變化的靈敏度。
顏色計算
顏色計算包括色度坐標、顯色指數(shù)、色純度、主導波長、相對色溫。圖形包括色度坐標圖、色調、用戶自定義圖。包括CIE 1931 和 1964 配色函數(shù)在內的許多標準光源選擇是預先定義好的，而用戶可以定制你所需要的參數(shù)的其它參數(shù)�？梢愿鶕�(jù)導入的透射及反射數(shù)據(jù)計算作為波長函數(shù)的顏色參數(shù)，也可以作為目標進行優(yōu)化。
設計和分析工具
包括導納圖，電場分布，等效折射率，吸收分布，應力，光的散射、特性包絡、消偏振邊帶濾波器設計和誘導透過率。
提取工具
n & k 提取工具提供了由量測測試薄膜的反射、透射頻譜數(shù)據(jù)以決定薄膜或基底n 與k 的方法。
反演工程
主要采用Simplex 局部優(yōu)化方法，根據(jù)已鍍膜的設計結構和光譜測試數(shù)據(jù)（至少一種），來確定其真實膜系結構及其與設計的差別。
公差
Essential Macleod 的公差能力允許你探查設計相對于制造誤差的靈敏度，可以比較不同的設計以挑選出最優(yōu)者。
細化與合成
Essential Macleod提供了6個優(yōu)化和2個合成工具，膜層可以鎖定或關聯(lián)（膜層關聯(lián)是更先進的分組形式可以把不連續(xù)的膜層關聯(lián)在一起優(yōu)化），堆積密度包含在細化工具下的簡單下降法里面（可對折射率優(yōu)化）。優(yōu)化過程可以加入如選擇的膜層的總厚度等不同的限制條件。Optimac和needle Synthesis方法可以優(yōu)化多層膜，可加入多種材料合成優(yōu)化。Context允許使用替代材料優(yōu)化。
圖表
Essential Macleod包括標準圖片、動態(tài)圖（參數(shù)的變化效應可立即看到）、三維圖。
導入與導出
剪貼板支持與其它應用程序的導入與導出數(shù)據(jù)，還可以導出數(shù)據(jù)到光學系統(tǒng)軟件中如FRED、VirtualLab、Zemax、Code V。
Runsheet模塊
這個工具可設計鍍膜制程，包含機器配置編輯器以及跑單生成器。
機器配置編輯器
機器配置中貯存了特定鍍膜機的詳細設置，監(jiān)控系統(tǒng)，入射角，材料，監(jiān)控芯片，加工因子（包含隨光源損耗變化的動態(tài)加工因子）。
Runsheet
使用者可使用跑單生成器對既定的機器配置，進行鍍膜設計的監(jiān)控規(guī)劃。該工具除了可同時具備光學與晶體監(jiān)控功能外，還具備諸如動態(tài)加工因子和系統(tǒng)帶寬等高級特性。
•對反射、背向反射和透射監(jiān)控計算光學信號
•當膜層沉積時，動態(tài)加工因子（Dynamic Tooling Factors）可以不同
•使用偏移和放大控制可以使信號數(shù)據(jù)縮小或放大到用戶自定義范圍
•對每一膜層，監(jiān)控波長、帶寬、監(jiān)控光譜、晶控或光控都可以用戶自定義
•在鍍膜的任何階段，監(jiān)控芯片可以更換
•多種配套的格式輸出
•提供圖片和表格的監(jiān)測數(shù)據(jù)可以輸出到用戶自定義報告格式
Simulator模塊
對于公差問題， Simulator 通過蒙特卡羅（Monte Carlo）法在實際模型控制過程的擴展來進行解決。通過一個由 Runsheet 創(chuàng)建的控制計劃， Simulator 可模擬薄膜淀積控制，引入隨機和系統(tǒng)效應，例如信號噪聲，加工因子的變動，封裝密度誤差等等，以及顯示這些參數(shù)對于鍍膜制程的最終模擬結果的效應。
Monitorlink模塊
Monitorlink提供將Runsheet連結到一個淀積控制器的額外軟件。一個獨立的程序與控制器直接連接，而且一個 Runsheet 的擴展也賦予其產出和編輯淀積程序的功能。
VStack 模塊
VStack 是一種計算與優(yōu)化的工具﹐它也能計算這些系統(tǒng)中斜射光的效應。當光束斜入射時，初始為p- 偏振態(tài)的光線最終會以p - 偏振態(tài)從系統(tǒng)出射。同理，原本是s - 偏振態(tài)光也會以p - 偏振態(tài)出射，我們稱此為偏振泄漏 (polarization leakage) 現(xiàn)象。VStack 能計算泄漏的大小而且提供泄漏元件的 Delta 值。
Function模塊
函數(shù)擴展功能無macleod計算中的限制，F(xiàn)unction有兩個主要工具：第一是簡單的宏語言可在軟件表格中運行，另一個是強大的Basic腳本語言。
宏語言可以保存和調用。Operation可以使陣列數(shù)據(jù)作為變量并可進行所有必要的插值。Operations可以創(chuàng)建黑體輻射光源，對于柯西材料模型可提取n和K數(shù)據(jù)，很容易的計算如平均或峰值特性等龐大計算量。其簡單宏指令中的操作 ( 具有內建的編輯器和語法檢查器 ) 能允許一再重復相同的計算。
腳本是比Operations功能強大但更復雜的的腳本編輯。腳本可以調用Macleod作為物的實體，并運行它的命令可以插入到工具欄中，存在兩個強大的編輯器，一個是可以使用BASIC腳本編輯器，另一個允許是允許用戶與程序包內置的對話框交互的腳本編輯器。
腳本也兼容OLE 的外部程序如Microsoft Word軟件。軟件提供了許多預先編輯好的腳本，如創(chuàng)建新的光源，如對不同的模型創(chuàng)建納米復合材料，如OLED特性計算，膜層表面3維數(shù)據(jù)收集，非均勻表面效應的計算。
DWDM Assistant模塊
在多腔濾波器設計中，特別是針對密集波分復用，用DWDM 助手可以避免單調的重復過程。DWDA Assistant 可自主設計一組多腔濾波片，以滿足用戶的不同規(guī)格，設計結果可以根據(jù)一些諸如總厚度、預計淀積時間、擾動特性等等規(guī)范排序。
通過擾動優(yōu)化算法，增加只是由1/4 波長厚度的膜層組成的結構，減少通帶中的脈動，使DWDM助手中使用的對稱周期技術功能增強。一般來說，對給定要求的濾波器，有許多的設計都滿足要求，但DWDM 助手可以按評價標準對設計結果進行排列。
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