隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展，光學(xué)軟件有了相當(dāng)長(zhǎng)足的進(jìn)步，對(duì)光學(xué)設(shè)計(jì)者而言，不僅要牢固掌握光學(xué)的理論知識(shí)，還要具備熟練的計(jì)算機(jī)操作和光學(xué)軟件的使用能力。光學(xué)專業(yè)設(shè)計(jì)軟件種類繁多，在非序列光追跡功能方面的表現(xiàn)亦各擅長(zhǎng)。
FRED 是由美國(guó) Photon Engineering 公司出品的光學(xué)引擎軟件。FRED可視化的人機(jī)接口將可使設(shè)計(jì)者在非常短的時(shí)間內(nèi)完成設(shè)計(jì)機(jī)構(gòu)的雛形，并驗(yàn)證方案的準(zhǔn)確性、最大限度地模擬產(chǎn)品的實(shí)際工作情況、為客戶節(jié)約時(shí)間與資金投入。
本書系統(tǒng)的概述了FRED基本概念和基本方法，全書共20章節(jié)，分為上下冊(cè)，本書在第一版基礎(chǔ)上，新增并調(diào)整了部分章節(jié)的內(nèi)容，第1章增加了FRED名詞術(shù)語(yǔ)及用戶界面；在2章中新增加了M2高斯光束光源，光源方向類型新增激光二極管光束方向、強(qiáng)度分布的隨機(jī)光線方向和M2激光束方向；第3章新增了孔徑裁剪邏輯操作實(shí)例、16種棱鏡類型、幾何元件基元、布爾運(yùn)算；第4章新增2種曲線類型：跑道曲線、非均勻有理樣條B曲線；第5章新增探測(cè)器實(shí)體及分析面尺寸設(shè)定。第6章新增腳本體散射及光線追跡膠合層；第7章新增三種新的鍍膜類型：取樣、1/4單層、腳本鍍膜；第8章新增5中散射模型：漫反射二項(xiàng)式、漫反射三項(xiàng)式、擴(kuò)展 Harvey Shack散射、腳本散射、擴(kuò)展腳本散射；第9章新增光線追跡菜單命名；第10章為新增內(nèi)容。第13章調(diào)整為表面類型，并新增了：線圈參數(shù)表面、焦點(diǎn)圓錐曲面、多面體表面、QBfs面、QCon面、直紋面、超高斯光束面、透鏡模塊面、表面模塊面；第16章新增優(yōu)化內(nèi)容；第18章新增7個(gè)實(shí)例，包括在散射、LED、雜散光、光纖耦合、衍射元件、腳本教程、卡塞格林望遠(yuǎn)鏡的應(yīng)用。本手冊(cè)可做為初學(xué)者在學(xué)習(xí)FRED的參考書籍。為從事光學(xué)科研、設(shè)計(jì)、教學(xué)的科技人員、工程人員、廣大教師和高等院校有關(guān)專業(yè)的學(xué)生，及相關(guān)學(xué)科的科技工作者，提供一部有實(shí)用價(jià)值的工具書。
本書中存在的不足之處，敬請(qǐng)讀者不吝指正。
第一章 FRED概述 1
1.1 WHAT IS FRED？ 1
1.2 FRED與傳統(tǒng)軟件之間有什么不同？ 1
1.3 FRED名詞術(shù)語(yǔ) 1
1.4 FRED用戶界面 5
第二章 光源 12
2.1 簡(jiǎn)易光源 12
2.1.1 簡(jiǎn)易光源的建立 12
2.1.2 復(fù)雜光源(簡(jiǎn)易光源對(duì)話框內(nèi)) 13
2.1.3 準(zhǔn)直光源（平面波） 14
2.1.4 激光二極管光束（像散高斯） 16
2.1.5 激光光束（TEM00模式） 18
2.1.6 點(diǎn)光源 21
2.1.7 M2高斯光束 22
2.1.8 相干光 24
2.2 復(fù)雜光源 37
2.2.1復(fù)雜光源的創(chuàng)建與編輯 37
2.2.2創(chuàng)建新的與編輯/查看復(fù)雜光源對(duì)話框 38
2.2.3光源位置類型 39
2.2.3.1位圖 39
2.2.3.2格子平面（創(chuàng)建新的與編輯/查看復(fù)雜光源對(duì)話框） 40
2.2.3.3六角形平面 42
2.2.3.4 字符串光源 42
2.2.3.5光源文件的輸入 44
2.2.3.6隨機(jī)平面 45
2.2.3.6隨機(jī)字符串 45
2.2.3.7隨機(jī)表面 47
2.2.3.8隨機(jī)體積 48
2.2.3.9 用戶定義的光線 49
2.2.4方向類型 52
2.2.4.1像散焦距 52
2.2.4.2像散高斯光束 53
2.2.4.3焦點(diǎn)到/來自一點(diǎn) 54
2.2.4.4 多光源的角(平面波) 55
2.2.4.5 多光源的位置 56
2.2.4.6 角度范圍內(nèi)的隨機(jī)方向（光線） 57
2.2.4.7 球體內(nèi)的隨機(jī)方向（光線） 58
2.2.4.8 單向 59
2.2.4.9 角度空間內(nèi)構(gòu)成六角形格子點(diǎn)的方向（光線） 61
2.2.4.10 構(gòu)成線性格子點(diǎn)的方向（光線） 62
2.2.4.11 激光二極管光束方向 63
2.2.4.12根據(jù)強(qiáng)度分布的隨機(jī)光線方向 64
2.2.4.13 M2激光束方向 65
2.3 光源標(biāo)簽 65
2.3.1 相干 65
2.3.2 位置/坐標(biāo) 67
2.3.3 偏振 69
2.3.4 位置/方向 70
2.3.5 功率 72
2.3.6 視覺效果 74
2.3.7 波長(zhǎng) 75
2.4 切趾光源 77
2.4.1 位置切趾 77
2.4.1.1振幅/相位掩模板 77
2.4.1.1.2 掩膜板大小 78
2.4.1.2 高斯切趾 79
2.4.1.3 R^n距離 81
2.4.1.4均勻 83
2.4.2 方向切趾 85
2.4.2.1 cos^n 或 sin^n 85
2.4.2.2逆朗伯 87
2.4.2.3高斯 90
2.4.2.4郎伯 91
2.4.2.5取樣（球形角） 93
2.4.2.6均勻 95
2.4.3光線導(dǎo)入選項(xiàng) 97
2.4.4數(shù)字化光源光譜 97
2.4.5部分相干 99
2.4.6 場(chǎng)重新取樣 99
2.4.7場(chǎng)重新取樣（圖形用戶界面） 99
第三章 幾何體議題與例子 102
3.1 創(chuàng)建新曲面 102
3.1.1 編輯/查看曲面 103
3.1.2 應(yīng)用孔徑，裁剪體與裁剪對(duì)象 106
3.1.2.1裁剪體與裁剪對(duì)象 108
3.1.2.2裁剪邏輯操作 110
3.1.3 應(yīng)用位置 118
3.1.4 應(yīng)用膠合 120
3.1.5 應(yīng)用光柵 121
3.1.6 曲面類型 125
3.1.7 應(yīng)用可視化屬性 127
3.1.8 應(yīng)用曲面變形 129
3.1.9 材料 133
3.1.10 散射特性 134
3.1.11 輔助數(shù)據(jù) 139
3.2 ASAP™導(dǎo)入 139
3.3 CAD導(dǎo)入 141
3.4創(chuàng)建幾何實(shí)體 145
3.4.1 透鏡導(dǎo)入 145
3.4.2 透鏡及反射鏡建立 147
3.4.3 從目錄中插入棱鏡 150
3.4.4 棱鏡 151
3.4.5 元件基元 156
3.4.6 布爾運(yùn)算 161
3.5 新自定義元件 164
3.6 元件與自定義元件的比較 167
3.7 方向余弦 168
3.8 IGES對(duì)象類型標(biāo)號(hào)和標(biāo)題 169
第四章 曲線與基于曲線的曲面 176
4.1 曲線 176
4.2 曲面類型 182
4.3 復(fù)雜曲面孔徑：孔徑曲線集合 187
4.4 曲線可視化 201
第五章 分析面及其實(shí)例 203
5.1 創(chuàng)建分析平面 203
5.2 光線選擇標(biāo)準(zhǔn) 210
5.3 粘附分析平面 214
5.4 探測(cè)器實(shí)體 216
5.5 分析面尺寸 219
第六章 材料設(shè)定與定義 221
6.1 材料定義 221
6.2 材料類型 224
6.3 編輯/創(chuàng)建新取樣材料 226
6.4 編輯/創(chuàng)建新模型材料 232
6.5 添加體散射 236
6.5.1 Henyey-Greenstein散射 236
6.5.2 腳本體散射 238
6.6 材料吸收特性 239
6.7 光線追跡膠合層 241
第七章 鍍膜 243
7.1 新建鍍膜 243
7.2 應(yīng)用光線控制和鍍膜 248
7.3 編輯或創(chuàng)建新的一般取樣鍍膜 250
7.4 編輯或創(chuàng)建新的薄膜層鍍膜 258
7.5 未鍍膜（裸露）曲面 263
7.6 編輯或創(chuàng)建新的偏光器/波片鍍膜 266
7.7 取樣鍍膜（波長(zhǎng)、R、T） 276
7.8 1/4波單層鍍膜 277
7.9 腳本鍍膜 278
第八章 散射 281
8.1新建散射屬性 281
8.2編輯/創(chuàng)建新散射模型 290
8.2.1散射模型 – ABg 290
8.2.2散射模型 – 平滑黑色涂料 294
8.2.3散射模型 – Harvey-Shack 298
8.2.4散射模型 – 朗伯型 304
8.2.5散射模型 – Mie 308
8.2.6散射模型 – 列表數(shù)據(jù) 316
8.2.7散射模型 – K-系數(shù) 320
8.2.8散射模型 – Phong 323
8.2.9散射模型 – 薄片PSD 327
8.2.10散射模型 – 漫反射二項(xiàng)式 330
8.2.11散射模型 – 漫反射多項(xiàng)式 331
8.2.12散射模型 – 擴(kuò)展 Harvey Shack 333
8.2.13散射模型 – 腳本散射 333
8.2.14散射模型 – 擴(kuò)展腳本散射 336
第九章 光線追跡屬性 338
9.1 光線追跡控制 338
9.2 默認(rèn)光線追跡控制 344
9.2.1默認(rèn)光線追跡控制 – 允許全部 344
9.2.2默認(rèn)光線追跡控制 – 暫停全部 347
9.2.3默認(rèn)光線追跡控制 – 反射光譜 350
9.2.4默認(rèn)光線追跡控制 –透射光譜 353
9.3 高級(jí)光線追跡 356
9.4 光線追跡菜單命令 361
第十章 光譜 363
10.1創(chuàng)建光譜命令 363
10.2光譜概述 364
10.2.1黑體 365
10.2.2高斯 365
10.2.3采樣 367
光學(xué)工程仿真軟件－FRED操作手冊(cè) 全新改版（下）
目 錄
第十一章 數(shù)字化工具：鍍膜、材料、光源光譜與曲線 369
第十二章 重點(diǎn)采樣 376
12.1 如何進(jìn)行重點(diǎn)采樣 376
12.2 自動(dòng)計(jì)算散射重點(diǎn)采樣 378
12.3 分析散射重點(diǎn)采樣對(duì)話框 380
第十三章 表面類型 383
第十四章 波分解 434
第十五章 FRED內(nèi)的不同主題 438
15.1 偏振引起的色分離 438
15.2 高等孔徑對(duì)話框 441
15.3 圓形/正方形區(qū)域值對(duì)話框 444
15.4 實(shí)體陣列對(duì)話框 444
15.5 擬合數(shù)據(jù)到漫射二項(xiàng)式/多項(xiàng)式函數(shù)對(duì)話框 449
15.6 傅立葉變換分析 451
15.7 生成IES輸出對(duì)話框 453
15.8 全局腳本變量對(duì)話框 459
15.9 膠合曲面對(duì)話框 459
15.10 追跡目標(biāo)光線對(duì)話框 461
15.11 搜索供應(yīng)商目錄對(duì)話框 464
15.12 創(chuàng)建/編輯透鏡 466
15.13 新材料對(duì)話框 474
15.14 材料表/選擇對(duì)話框 477
15.16 新鏡面 479
第十六章 FRED菜單命令 482
16.1 文件 482
16.2 編輯 501
16.3 視圖 503
16.4 工具 507
16.5 3D視圖 517
16.6 光線追跡 536
16.7 創(chuàng)建 551
16.8 分析 567
16.9 優(yōu)化 603
16.10 幫助 607
第十七章 圖形參數(shù)設(shè)置 614
17.1 圖軸標(biāo)記對(duì)話框 614
17.2 鍍膜圖設(shè)置對(duì)話框 614
17.3 BSDF 3D圖設(shè)置對(duì)話框 616
17.4 改變FRED圖，軸和可視化屬性 620
17.5 背景網(wǎng)格對(duì)話框 631
第十八章 – 范例 636
例1 – FRED內(nèi)的MTF計(jì)算 636
例2 – 若丹明熒光粉（一種紅色熒光粉）6G 642
例3 – 偏振分離顏色 648
例4 – 反向散射 651
例5 – 光纖耦合 654
例6 – PETZVAL（匹茲伐）系統(tǒng)鬼像分析實(shí)例 676
例7 – 卡塞格倫望遠(yuǎn)鏡 693
例8 – LED發(fā)光顏色優(yōu)化 722
例9 – 創(chuàng)建一個(gè)衍射光學(xué)元件 728
例10 – FRED腳本教程 737
第十九章 – 排錯(cuò)驅(qū)動(dòng)器與顯卡問題 741
第二十章 – FRED與SAFENET兼容 745
